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破界微观视界:NS-3500激光共聚焦扫描显微镜如何重新定义非接触式3D测量?

更新时间:2026-05-24      点击次数:7
  在半导体与新材料研发的前沿,传统的接触式探针往往面临“测不准”或“测不到”的尴尬——探针容易划伤样品,或在面对透明、柔软材质时束手无策。NS-3500高速3D激光共聚焦扫描显微镜的诞生,正是为了打破这一瓶颈,它不仅仅是一台显微镜,更是一套非接触、无损伤、高精度的三维光学测量解决方案。
 

激光共聚焦扫描显微镜

 

  一、核心技术:针孔共聚焦与双Z扫描
  NS-3500的灵魂在于其独特的针孔共聚焦光学系统。利用405nm紫光激光作为光源,配合光电倍增管(PMT)接收元件,它能有效滤除焦平面外的杂散光,从而获得高对比度的清晰图像。
  双Z扫描技术:设备支持精细扫描(400μm)与长扫描(10mm)模式。无论是纳米级的表面粗糙度,还是毫米级的宏观轮廓,都能通过自动切换轻松应对。
  实时共焦成像:搭载快速光学扫描模块,表面扫描频率高达20-160Hz,线扫描更可达8kHz,真正实现了微观形貌的“实时直播”。
  二、性能:纳米级分辨率与智能算法
  对于科研与工业检测而言,数据的精确性是生命线。NS-3500在重复性精度上展现了惊人的实力:
  高度测量:显示分辨率达0.001μm,重复率σ低至0.010μm。
  宽度测量:显示分辨率达0.001μm,重复率3σ低至0.02μm。
  此外,设备内置了自动倾斜补偿与大范围拼接功能。这意味着即使样品表面存在倾斜,或者你需要观察超出单视野的大面积区域,系统也能通过算法自动校正并拼接出完整的3D形貌图,无需繁琐的手动操作。
  三、应用场景:从芯片到太阳能电池
  凭借其广泛的物镜倍率(10x-150x)与高达26700x的总放大倍率,NS-3500已成为多个领域的得力助手:
  半导体与FPD:精准测量IC图形、Bump高度、LCD柱间距以及ITO图案,助力CMP工艺优化。
  新能源材料:在太阳能电池领域,它能无损检测制绒后的金字塔结构尺寸与栅线高宽比,是提升光电转换效率的关键工具。
  MEMS与微纳结构:清晰呈现MEMS器件的三维轮廓与表面粗糙度,为微机电系统研发提供数据支撑。
  四、极简操作:所见即所得的体验
  不同于传统设备的复杂调试,NS-3500强调无样品准备与自动聚焦。用户只需将样品放上载物台,系统即可通过实时CCD明场成像快速定位,一键切换到共聚焦模式进行测量。这种“即放即测”的流畅体验,极大地提升了实验室与产线的检测效率。

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